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產品詳情

材質：W1

類型：平面靶材，旋轉靶材

形狀：管狀，方形，圓形，長條形

純度：99.95%，99.97%

常規(guī)密度：19.0g/cm3～19.2g/cm3

高密度：>19.2g/cm3

尺寸：按圖紙加工，滿足精度要求

產品特性:高密度，高純度，細晶粒，致密性好

應用領域：濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是物理氣相沉積(PVD)主要方法之一,它用于在表面沉積具有某種特殊功能的薄膜。濺射靶材的主要應用于平板顯示鍍膜、半導體鍍膜，玻璃鍍膜、太陽能電池鍍膜、裝飾鍍膜等行業(yè)。

工藝流程：

平面靶材：鎢粉-壓制-燒結-軋制-深加工-表面處理-成品-檢驗-包裝

小型旋轉靶材：鎢粉-壓制-燒結-鍛造-深加工-表面處理-成品-檢驗-包裝

大型旋轉靶材：鎢粉-壓制-燒結-深加工-表面處理-成品-檢驗-包裝

HIP工藝生產靶材的優(yōu)勢：

--密度更高
--晶粒組織更細小均勻

--提高機械性能

--消除內部氣孔

--提高切削加工表面質量

洛陽辰駿鎢鉬科技有限公司可生產供應以下各種形狀的高質量靶材：

鎢靶，鉬靶，鉬鈮合金靶材，鈮靶，鉻靶，鈦靶，鉭靶